2. 1.2离子源性能:
2. 1. 2.1常温喷雾设计，先喷雾后加热，保障喷雾气流稳定性;另有辅助气加热聚焦，提高离子化效率;
2. 1. 2.2正交喷雾离子垂直引入，提高系统抗污染能力。
2.1.2.3 ESI源 与APCI源独立工作，互不干扰;更换离子源状态时，只需插拔式更换离子源喷针，方便快速，无需更换电缆数据线、无需卸
真空系统。
*2. 1.2. 4离子源加热辅助气设计:先喷雾后加热，辅助气温度可至700C以上( 提供软件设置温度的截图证明)。
2. 1. 2.5离子源大耐受流速: 水相，至少3m1/min流速 ，保证离子化效率和稳定性。
2.1. 2.6离子源排废设计:主动快速排废，废气直接排到源腔体外，保障系统抗污染能力，背景噪音低。
2.1.2.7离子源真空接口技术:
2.1. 2.7.1冷却降温反吹气设计，防止离子簇，保护热不稳定离子，降低中性分子的引入。
2.2质量分析系统
2.2.1 质量分析器:三重四级杆质谱质量分析系统。
2.2.2 Q0离子引入部分拥有高压离子聚焦技术，压力至少达7.5mtorr,以确保的离子聚焦效果和离子传输效率。
2.2.3碰撞室技术:
2.2.3.1高通量180°弯曲线性加速设计:- -次进样 ，可同时实现至少170种化合物的谱图定性筛查和MRM定量分析，无需分时间窗口分析，
有效消除“交叉污染”、保证高通里分析能力。
2.2.3.2气源要求:氮气发生器供应氮气即可，无需气。
2.2.4质里范围m/z: 5-2000amuo .
*2.2.5质量稳定性:优于0. 1 amu/24小时，无需保温设计。
2.2.6质里准确度:优于0.01% (全质量范围)。